满卫东（博士）的个人简介
满卫东，男，出生于1970年11月，博士，教授，现任武汉工程大学材料物理专业教研室主任。
个人履历
1992年毕业于合肥工业大学化工系，获学士学位；2002年2月毕业于武汉化工学院（现武汉工程大学）获硕士学位；2006年7月毕业于中国科学院等离子体物理研究所获博士学位。2010年获得教授职称，武汉工程大学硕士生导师。现任材料物理专业教研室主任。
主要成就
主要从事CVD金刚石膜的制备与加工，微波能产业化应用研究、微波等离子体工业应用，功能薄膜PVD、CVD设备与工艺的研发，材料表面涂覆与表面改性等方面的研究工作；目前的研究主要集中在单晶钻石外延产业化生产的研究，大功率微波CVD金刚石膜沉积设备的研发等方面。对获取国外先进的专业技术信息颇有研究。先后主持和参与国家、省自然科学基金等纵横向科研项目10余项。科研进账212万。作为第一作者或通讯作者在国内外核心刊物上发表研究论文60余篇，其中SCI:17篇，EI:12篇。获国家发明专利1项。
主要教学、科研项目（1）等离子体辅助固体接触法图形化CVD金刚石膜的研究（Q20081505），2008-2010，湖北省教育厅科研计划项目
（2）废水处理用高比表面导电金刚石膜电极的制备研究(2008CDB255)，2008-2010，湖北省自然科学基金
（3）声表面波用金刚石/硅基底的研制，2009-2011，郑州大学
（4）适应低碳经济发展模式的材料物理专业培养方式的探索（2010235），2011-2012，湖北省教育厅重点教研项目
发表的主要论文[1]Man Weidong, Weng Jun, et al., A Novel Method of Fabricating Large u2013crystal, well-facet Diamond through MPCVD, Plasma Science and Technology, 2009, 11(6):688-692
[2]满卫东，翁俊，等，MPCVD法在基片边缘生长大颗粒金刚石的研究，人工晶体学报，2011，40(1):53-59
[3]满卫东，谢鹏，等，微波等离子体同质外延修复金刚石的研究，人工晶体学报，2008，37(5):1157-1161.
[4]满卫东，孙蕾，等，CVD金刚石膜表面图形化加工技术的研究，微细加工技术，2008，101(3):25-29
[5] Man Weidong, Wang Jianhua, et al., Planarizing CVD diamond Films by using hydrogen plasma etching enhanced carbon diffusion process, Diamond and Related Materials, 2007, 6（8）：1455-1458
授权发明专利1.一种金刚石表面图形化方法，CN200710053016[1].9，发明人：满卫东，汪建华
